मेटल मैग्नेट्रॉन स्पटरड हीट-इंसुलेटिंग विंडो फिल्म

चुंबकीय स्पटरिंग भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) पर आधारित एक पतली-फिल्म जमाव तकनीक है, जो वैक्यूम स्थितियों के तहत इलेक्ट्रॉन गति को नियंत्रित करने के लिए एक चुंबकीय क्षेत्र का उपयोग करती है, जिससे सब्सट्रेट सतह पर धातु या मिश्र धातु के लक्ष्यों से परमाणुओं के जमाव को एकसमान, सघन फिल्में बनाने में सक्षम बनाया जाता है। मुख्य सिद्धांत और प्रक्रिया चरण इस प्रकार हैं: वैक्यूम पर्यावरण स्थापना - संपूर्ण जमाव प्रक्रिया एक उच्च-वैक्यूम कक्ष के भीतर होती है, जहां वायुजनित अशुद्धियों को फिल्म की शुद्धता और संरचनात्मक स्थिरता से समझौता करने से रोकने के लिए 10⁻³ और 10⁻¹ Pa के बीच दबाव बनाए रखा जाता है।

हीट ब्लॉकिंग विंडो फिल्म स्पटरड हीट-इंसुलेटिंग विंडो फिल्म लक्ष्य सामग्री और सब्सट्रेट कॉन्फ़िगरेशन: विंडो फिल्मों की प्रदर्शन आवश्यकताओं के आधार पर उपयुक्त लक्ष्य सामग्री का चयन करें; सामान्य विकल्पों में चांदी, टाइटेनियम और निकल-क्रोमियम मिश्र धातु शामिल हैं। सब्सट्रेट आमतौर पर एक पीईटी (पॉलीइथाइलीन टेरेफ्थेलेट) फिल्म होती है, जो उत्कृष्ट प्रकाश संप्रेषण और यांत्रिक शक्ति प्रदर्शित करती है।

चुंबकीय और विद्युत क्षेत्रों के बीच सहक्रियात्मक संपर्क: लक्ष्य सामग्री के पीछे चुंबकीय क्षेत्र को लागू करने से एक ऑर्थोगोनल विद्युत चुम्बकीय क्षेत्र बनता है जो कक्ष के भीतर विद्युत क्षेत्र के साथ संपर्क करता है, जिससे लक्ष्य सतह के साथ इलेक्ट्रॉनों की पेचदार गति उत्पन्न होती है। इससे आर्गन अणुओं के साथ टकराव की संभावना बढ़ जाती है, जिससे बड़ी संख्या में आर्गन आयन उत्पन्न होते हैं। हीट ब्लॉकिंग विंडो फिल्म आर्गन आयनों को विद्युत क्षेत्र द्वारा त्वरित किया जाता है और लक्ष्य सतह पर बमबारी की जाती है, जिससे पीईटी सब्सट्रेट पर परमाणु अलगाव और जमाव होता है।

स्पटरड हीट-इंसुलेटिंग विंडो फिल्म मल्टीलेयर कंपोजिट डिपोजिशन: अलग-अलग धातु या मिश्र धातु की परतों को बारी-बारी से जमा करके, एक मल्टीलेयर कंपोजिट संरचना बनाई जाती है, जो न केवल विंडो फिल्मों के थर्मल इन्सुलेशन प्रदर्शन को बढ़ाती है, बल्कि फिल्म के संक्षारण प्रतिरोध और स्थायित्व में सुधार करते हुए एकल-धातु परतों से जुड़े सिग्नल परिरक्षण मुद्दों से भी बचाती है।